等离子喷涂技术是二十世纪五十年代开发出来的一种外表处理工艺。等离子喷涂设备及工艺是选用等离子弧发生器(喷枪)将通入喷嘴内的气体(常用Ar、N和H等气体)加热和电离,构成高温高速等离子射流,熔化和雾化金属或非金属物料,并使其以高速喷射到经预处理的工件外表上构成涂层的方法。
等离子喷涂工艺特征:
热源温度高(17000K),适用于难熔材料的喷涂等离子射流速度大,可高达几十至几百米/秒,因此涂层与基体具有较高的结合强度,并且涂层较为细密喷涂过程中对基体的热影响较小,可以对已成型的工件进行外表喷涂喷涂工艺规程安稳,操作比较简洁,喷涂功率较高现在,等离子喷涂技术用于制备热障涂层的陶瓷面层和金属过渡层。按喷涂环境不同而分类的等离子喷涂有以下几种工艺:大气等离子喷涂(APS),维护气氛(氩气)等离子喷涂(ASPS),低压(LPPS)或真空等离子喷涂(VPS)。
大气等离子喷涂法是运用最为广泛的常规喷涂方法,具有操作便利,出产功率高的特征,但涂层质量高并且涂层细密度和结合强度高。
真空等离子喷涂法因为从根本上克服了等离子射流同环境气氛的相互作用,因此可获得与原始喷涂材料成分一致的纯洁涂层,并且等离子射流速度快(240~610m/s),由此构成的涂层细密,结合强度与APS涂层比较较高。一般,MCrAlY粘结层选用LPPS或VPS工艺制备,而YSZ陶瓷层的制备则选用APS方法。
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